更新時(shí)間：2024-06-16
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| 品牌 | 其他品牌 | 貨號 | 123 |
|---|---|---|---|
| 規格 | FB-20-128-2-GR | 供貨周期 | 一個(gè)月以上 |
| 主要用途 | 設備 | 應用領(lǐng)域 | 電子 |
| 名稱(chēng) | 哈默納科 | 用途 | 半導體、機器人、機械設備 |
| 材質(zhì) | 鋼 | 是否進(jìn)口 | 是 |
早期的掃描電子束曝光采用圓形束斑。為提高生產(chǎn)率又研制出方形束斑，其曝光面積是圓形束斑的25倍。后來(lái)發(fā)展的可變成形束，哈默納科離子束加工諧波FB-20-128-2-GR其曝光速度比方形束又提高2倍以上。面曝光是使電子束先通過(guò)原版，這種原版是用別的方法制成的比加工目標大幾倍的模板。再以1/5一1/10的例縮小投影到電致抗蝕劑上進(jìn)行大規模集成電路圖形的曝光。
一、離子束加工的基本原理和特點(diǎn)
1.基本原理
離子束加工是利用離子束對材料進(jìn)行成形哈默納科離子束加工諧波FB-20-128-2-GR或表面改性的加工方法。在真空條件下，將由離子源產(chǎn)生的離子經(jīng)過(guò)電場(chǎng)加速，獲得具有一定速度的離子投射到材料表面，產(chǎn)生濺射效應和注入效應。由于離子帶正電荷，其質(zhì)量比電子大數千、數萬(wàn)倍，所以離子束比電子束具有更大的撞擊動(dòng)能，它是靠微觀(guān)的機械撞擊能量來(lái)加工的。
離子束加工的物理基礎是離子束射到材料表面時(shí)所發(fā)生的撞擊效應、濺射效應和注入效應。具有一定動(dòng)能的離子斜射到工件材料〔靶材)表面時(shí)，可以將表面的原子撞擊出來(lái)，這就是離子的撞擊效應和濺射效應。
