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哈默納科熱處理設備諧波SHF-45-100-2UH

哈默納科熱處理設備諧波SHF-45-100-2UH

更新時(shí)間:2024-06-16

設備型號:

設備價(jià)格:

訪(fǎng)問(wèn)量:606

簡(jiǎn)要描述:
哈默納科熱處理設備諧波SHF-45-100-2UH可產(chǎn)生徑向彈性變形并帶有外齒的柔輪和一個(gè)裝在柔輪內部、呈橢圓形、外圈帶有柔性滾動(dòng)軸承的波發(fā)生器。
品牌其他品牌貨號123
規格SHF-45-100-2UH供貨周期一個(gè)月以上
主要用途設備應用領(lǐng)域電子
名稱(chēng)哈默納科用途半導體、機器人、機械設備
材質(zhì)是否進(jìn)口

而且電子束設備的功率可以做得比激光功率大,所以電子束熱處理工藝發(fā)展前景看好。

   用電子束加熱金屬使之表面熔化后,哈默納科熱處理設備諧波SHF-45-100-2UH可在熔化區內加入添加元素,使金屬表面形成一層很薄的新的合金層,從而獲得更好的物理力學(xué)性能。其中,鑄鐵的電子束熔化處理可以產(chǎn)生非常細的萊氏體組織,其優(yōu)點(diǎn)是抗滑動(dòng)磨損性能好。研究表明,鋁、欽、鎳的各種合金幾乎均可進(jìn)行添加元素處理,從而使其耐磨性能大大提高。

   4.電子束曝光

   電子束曝光是先利用低功率密度的電子束照射稱(chēng)為電致抗蝕劑的高分子材料,由入射電子與高分子相碰撞,使分子的鏈被切斷或重新聚合而引起分子量的變化,這一步驟也稱(chēng)為電子束光刻。通常將它作為集成電路、微電子器件以及微型機械元器件的刻蝕前置工序。如果按規定圖形進(jìn)行電子束曝光,就會(huì )在電致抗蝕劑中留下潛像。然后將它浸入哈默納科熱處理設備諧波SHF-45-100-2UH適當的溶劑中,則由于分子量不同而溶解度不一樣,就會(huì )使潛像顯影出來(lái),

電子束曝光主要分為兩類(lèi):掃描電子束曝光,又稱(chēng)電子束線(xiàn)曝光;投影電子束曝光,又稱(chēng)電子束面曝光·線(xiàn)曝光是將聚焦到小于1E}m的電子束斑在大約0.5 -5mm的范圍內自動(dòng)掃描,可曝光出任意形狀的圖形。


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