哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L

離子源又稱(chēng)離子槍?zhuān)靡援a(chǎn)生離子束流。其基本工作原理是將待電離氣體注入電離室，然后使氣態(tài)原子與電子發(fā)生碰撞而被電離，哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L 從而得到等離子體。等離子體是多種離子的集合體，其中有帶電粒子和不帶電粒子，在宏觀(guān)上呈電中性。采用一個(gè)相對于等離子體為負電位的電極〔吸極)，將離子由等離子體中引出而形成離子束流，而后使其加速射向工件或靶材。對離子源的要求，首先是離子束有較大的有效工作區， 以滿(mǎn)足實(shí)際加工的需要。其次，離子源的中性損失要小。因為中性損失是指通向離子源的中性氣體未經(jīng)電離而損失的那部分流量，它將直接給真空系統增加負擔。此外，還要求離子源的放電損失小，結構簡(jiǎn)單，運行可靠等。

   根據離子束產(chǎn)生的方式和用途不同哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L ，離子源有很多形式。常用的有考夫曼型離子源和雙等離子管型離子源。

三、離子束加工的應用

   目前，用于改變零件尺寸和表物理力學(xué)性能 的離子束加工技術(shù)主要有以下四種，即利用離子撞擊和濺射效應的離子束刻蝕、離子濺射鍍膜和離子鍍，以及利用離子注入效應的離子注入。